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            產品列表

            pvd涂層加工

            產品名稱:pvd涂層加工


            一、PVD涂層的概念

                PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。


            二、PVD涂層加工的技術 

               增強型磁控陰極?。宏帢O弧技術是在真空條件下,通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態,從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用,將靶材表面的電弧加以有效地控制,使材料的離化率更高,薄膜性能更加優異。

               過濾陰極?。哼^濾陰極電弧(FCA )配有高效的電磁過濾系統,可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈,經過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%,并且可以過濾掉大顆粒, 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與機體的結合力很強。

               磁控濺射:在真空環境下,通過電壓和磁場的共同作用,以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊,致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同,導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。

               離子束DLC:碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體,在電磁場的共同作用下,離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上,沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓,因而離子能量更大,使得薄膜與基片結合力很好;離子電流更大,使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在于可沉積超薄及多層結構,工藝控制精度可達幾個埃,并可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至最小。


            三、PVD涂層加工


               PVD物理氣相沉積具有金屬汽化的特點,與不同的氣體反應形成一種薄膜涂層。在真空環境下,通過電壓和磁場的共同作用,以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊,致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同,導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。PVD 涂層加工溫度屬于超低溫工藝,對工件尺寸影響非常小,不會影響工件的精度。


               PVD涂層適合對絕大多數 模具和部件進行沉積涂層,應用領域包括切削 、成型模具、耐磨部件、汽車零部件、醫療裝置和裝飾產品等。其材料可包括鋼料,硬質合金和經電鍍的塑料等。


               涂層類型有: OVINO?TiCN、OVINO?ALCrTiN、OVINO?TiALN、OVINO?CrN(MP)、OVINO?CrALN、OVINO?ZrN、A-C:H/DLC/TAC etc.

               涂層厚度一般為3~6um ,但在有些情況下,涂層可薄至0.5um ,厚至10um。

               涂層種類和厚度決定工藝時間,一般工藝時間為8~12小時。


            四、PVD涂層加工優點:

            1、適合多種材質,涂層多樣化。

            2、延長工件使用壽命,改善品質,提高生產效率。

            3、較低的涂層溫度,零件尺寸變形小。

            4、非常環保,對工藝環境無污染。


            德隆保涂層科技有限公司

             聯系人:熊先生

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